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    芯片设备

    Chip equipment

    光刻机


    设备名称:光刻机

    设备厂商:美国ABM公司

    工作原理:将设计的掩模图形通过光刻机曝光转移        到涂有光刻胶的晶片上。

    用途:光刻胶的图形化


    技术指标:

    1.紫外光波长:365nm,曝光能量密度18-20mW/cm2可调

    2. 样品尺寸:6英寸及以下

    3. 分辨率:接触曝光<0.5μm,接近式曝光≤1μm

    4.对准精度:<1μm



    可以实现6英寸wafer光刻,光刻均匀性小于±3%(大尺寸图形);1μm线条均匀性小于± 5%